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50t/h電子級高純水設備介紹

電子級高純水設備采用全膜法制取高純水，水質穩定18兆歐以上，具有自動化程度高，設備集成程度高，綠色環保，操作維護簡便等特點。
■主要用途：
※電子線路板生產制造用高純水設備；
※半導體芯片晶元清洗用純水設備；
※太陽能光伏（硅粉生產、單晶多晶生產、石英坩堝、多晶硅方舟、太陽能電池片生產）用電子級高純水設備
※鋰電池新能源材料生產用去離子水設備
※納米和高純度電子級材料生產用超純水設備

產品詳情介紹

50t/h電子級高純水設備介紹







電子級高純水設備采用反滲透技術，全膜法制取高純水，水質穩定18兆歐以上，具有自動化程度高，設備集成程度高，綠色環保，操作維護簡便等特點。

■主要用途：

※電子線路板生產制造用高純水設備；

※半導體芯片晶元清洗用純水設備；

※太陽能光伏（硅粉生產、單晶多晶生產、石英坩堝、多晶硅方舟、太陽能電池片生產）用電子級高純水設備

※鋰電池新能源材料生產用去離子水設備

※納米和高純度電子級材料生產用超純水設備



■系統處理工藝流程圖

原水→原水箱→原水增壓泵→超濾膜系統→凈水箱→增壓泵→阻垢劑加藥系統/還原劑加藥系統→保安過濾器→高壓泵1→反滲透裝置1（I級二段）→中間水箱→PH調節裝置→高壓泵2→反滲透裝置2→純水箱→輸送泵→EDI電除鹽系統→EDI高純水箱→高純水輸送泵→拋光混床→TOC去除器→過濾器→用水點

注：本系統采用反滲透和EDI處理工藝，主要有四個部分組成，預處理系統、二級反滲透主機系統、EDI電除鹽系統、拋光混床系統；



原水采用自來水通過增壓泵增壓進入超濾系統，去除水中的懸浮物、膠體等，配套有還原劑加藥系統和阻垢劑加藥系統，可有效降低水中渾濁度，防止反滲透膜的結垢，提高反滲透膜的使用壽命；

二級反滲透系統采用陶氏或海德能品牌反滲透膜技術，自動制膜技術有效保證每支膜的水處理性能。I級反滲透采用CPA3型號的反滲透膜，該膜具有脫鹽率較高、操作壓力較小，抗污染性能，膜的脫鹽率可以達到99.7百分之；二級反滲透膜采用BW30-400系列膜，該膜普遍使用二級反滲透系統中，相對于其它膜在二級中具有更好的脫鹽效率。二級反滲透出水水質電導率可以達到5微西門子以下；

EDI電除鹽系統采用雙電壓模塊，EDI作為綠色脫鹽模式，具有以下優點：占地面積省、運行成本低、系統設計簡單、水質穩定、安裝維修簡便、綠色環保，不需要酸堿再生、可實現連續生產。EDI出水電阻率可以達到15~17兆歐；

拋光混床系統采用上海樹脂廠和羅門哈斯合資品牌拋光核級樹脂，拋光混床作為制取超純水的重點部件，經處理后出水可以達到18兆歐以上，滿足微電子行業用水要求；

系統中電氣控制情況

本設備采用觸摸屏PLC控制，系統中各工藝點的運行情況，在觸摸屏中都有所設計，系統故障有警示及指示功能，可以通過觸摸屏直觀的了解設備運行情況、故障分析；該設備中的水箱和水泵均設計有液位連動控制，可以實現系統無人值守；高壓泵均設計有壓力保護裝置；系統中的高純水電阻率儀有警示和信號輸出功能，在水質達不到設定要求自動警示。


■技術參數總表

項目型號	CL-50T/H型高純水設備
應用行業	高純水工藝用水
設備控制方式	觸摸屏PLC控制，各液位、壓力連鎖控制，實現無人值守
產水量	50T/H
進水水質指標	市政自來水，電導率≤800μS/cm
產水水質	電阻率≥18MΩ.CM）
反滲透設備系統脫鹽率	99.7百分之
自來水損耗	50t/h
進水溫度	10~40℃
工作方式	可24小時運行
設備額定功率	約160KW
電源	380V AC 50HZ 三相五線
反滲透系統回收率	70~75百分之
主機設備規格尺寸	長6000寬2500高2000
廠房建議尺寸（含操作維護空間）	長25M寬10M高5M
進水口徑	DN125 PN1.0法蘭接口
出水口徑	DN90 PN1.0法蘭接口
排污口徑	DN120 PN1.0法蘭接口

工業純水設備

50t/h電子級高純水設備介紹

產品詳情介紹

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電子級高純水設備采用反滲透技術，全膜法制取高純水，水質穩定18兆歐以上，具有自動化程度高，設備集成程度高，綠色環保，操作維護簡便等特點。

■主要用途：

※電子線路板生產制造用高純水設備；

※半導體芯片晶元清洗用純水設備；

※太陽能光伏（硅粉生產、單晶多晶生產、石英坩堝、多晶硅方舟、太陽能電池片生產）用電子級高純水設備

※鋰電池新能源材料生產用去離子水設備

※納米和高純度電子級材料生產用超純水設備



■系統處理工藝流程圖

原水→原水箱→原水增壓泵→超濾膜系統→凈水箱→增壓泵→阻垢劑加藥系統/還原劑加藥系統→保安過濾器→高壓泵1→反滲透裝置1（I級二段）→中間水箱→PH調節裝置→高壓泵2→反滲透裝置2→純水箱→輸送泵→EDI電除鹽系統→EDI高純水箱→高純水輸送泵→拋光混床→TOC去除器→過濾器→用水點

注：本系統采用反滲透和EDI處理工藝，主要有四個部分組成，預處理系統、二級反滲透主機系統、EDI電除鹽系統、拋光混床系統；



原水采用自來水通過增壓泵增壓進入超濾系統，去除水中的懸浮物、膠體等，配套有還原劑加藥系統和阻垢劑加藥系統，可有效降低水中渾濁度，防止反滲透膜的結垢，提高反滲透膜的使用壽命；

二級反滲透系統采用陶氏或海德能品牌反滲透膜技術，自動制膜技術有效保證每支膜的水處理性能。I級反滲透采用CPA3型號的反滲透膜，該膜具有脫鹽率較高、操作壓力較小，抗污染性能，膜的脫鹽率可以達到99.7百分之；二級反滲透膜采用BW30-400系列膜，該膜普遍使用二級反滲透系統中，相對于其它膜在二級中具有更好的脫鹽效率。二級反滲透出水水質電導率可以達到5微西門子以下；

EDI電除鹽系統采用雙電壓模塊，EDI作為綠色脫鹽模式，具有以下優點：占地面積省、運行成本低、系統設計簡單、水質穩定、安裝維修簡便、綠色環保，不需要酸堿再生、可實現連續生產。EDI出水電阻率可以達到15~17兆歐；

拋光混床系統采用上海樹脂廠和羅門哈斯合資品牌拋光核級樹脂，拋光混床作為制取超純水的重點部件，經處理后出水可以達到18兆歐以上，滿足微電子行業用水要求；

系統中電氣控制情況

本設備采用觸摸屏PLC控制，系統中各工藝點的運行情況，在觸摸屏中都有所設計，系統故障有警示及指示功能，可以通過觸摸屏直觀的了解設備運行情況、故障分析；該設備中的水箱和水泵均設計有液位連動控制，可以實現系統無人值守；高壓泵均設計有壓力保護裝置；系統中的高純水電阻率儀有警示和信號輸出功能，在水質達不到設定要求自動警示。


■技術參數總表

項目型號	CL-50T/H型高純水設備
應用行業	高純水工藝用水
設備控制方式	觸摸屏PLC控制，各液位、壓力連鎖控制，實現無人值守
產水量	50T/H
進水水質指標	市政自來水，電導率≤800μS/cm
產水水質	電阻率≥18MΩ.CM）
反滲透設備系統脫鹽率	99.7百分之
自來水損耗	50t/h
進水溫度	10~40℃
工作方式	可24小時運行
設備額定功率	約160KW
電源	380V AC 50HZ 三相五線
反滲透系統回收率	70~75百分之
主機設備規格尺寸	長6000寬2500高2000
廠房建議尺寸（含操作維護空間）	長25M寬10M高5M
進水口徑	DN125 PN1.0法蘭接口
出水口徑	DN90 PN1.0法蘭接口
排污口徑	DN120 PN1.0法蘭接口