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一、項目簡介 |
某半導體器件生產廢水情況如下:含氟清洗廢水、研磨清洗廢水、有機廢水(因產生量較少,濃度高,委托第三方處置單位處置)、酸堿廢水,廢水性質主要為清洗廢水,濃度較低,容易處理。廢水經過系統處理后達到國家污水綜合排放標準級標準和納管排放。 |
二、設計技術規范及相關標準 |
本污水處理項目的設計,施工與安裝嚴格執行國家的專業技術規范與標準,其主要規范與標準如下: |
●《污水綜合排放標準》 GB8978-1996標準 |
●《鋼結構設計規范》 GB50017-2017 |
●《固定式鋼梯和平臺要求》 GB 4053—2009 |
●《機械設備安裝工程施工及驗收規范》 GB50231-2009 |
●《現場設備、工業管道焊接施工及驗收規范》 GB50236-2011 |
●《電力裝置的繼電保護和自動裝置設計規范》 GBT50062-2008 |
●《電氣裝置施工及驗收規范》 GB-50254-96 |
●《分散型控制系統工程設計規范》 HGT-20573-2012 |
●《工業與民用供配電系統設計規范》 GB-50052-2009 |
●《低壓配電裝置及線路設計規范》 GB50054-2011 |
三、項目由來 |
該廠區主要廢水生產廢水來源于以下: |
3.1、含氟清洗廢水及處理單元預估出水情況 | |||||||
處理工藝 | 項目 | 水量(t/a) | pH | COD(mg/l) | SS(mg/l) | F-(mg/l) | 氯化物(mg/l) |
一級反應沉淀池 | 進水 | 11520 | 3-4 | 50 | 25 | 300 | 30 |
出水 | 11520 | 4-5 | 40 | 17.5 | 60 | 30 | |
去除效率% | - | / | 20 | 30 | 80 | / | |
二級反應沉淀池 | 進水 | 11520 | 4-5 | 40 | 17.5 | 60 | 30 |
出水 | 11520 | 5-6 | 32 | 7 | 12 | 30 | |
去除效率% | - | / | 20 | 60 | 80 | / | |
pH調節池 | 進水 | 11520 | 5-6 | 32 | 7 | 12 | 30 |
出水 | 11520 | 6-9 | 32 | 7 | 12 | 30 |
3.2、研磨清洗廢水及處理單元預估出水情況 | |||||
處理工藝 | 項目 | 水量(t/a) | pH | COD(mg/l) | SS(mg/l) |
反應沉淀 | 進水 | 3840 | 6-9 | 100 | 800 |
出水 | 3840 | 7-10 | 100 | 200 | |
去除效率% | - | / | 0 | 75 | |
pH調節池 | 進水 | 3840 | 7-10 | 100 | 200 |
出水 | 3840 | 6-9 | 100 | 200 |
3.3、含有機物清洗廢水 |
有機清洗廢水排放量較少,只為144m3/a,經現場收集后委托有資質單位處理處置。 |
一、項目簡介 |
某半導體器件生產廢水情況如下:含氟清洗廢水、研磨清洗廢水、有機廢水(因產生量較少,濃度高,委托第三方處置單位處置)、酸堿廢水,廢水性質主要為清洗廢水,濃度較低,容易處理。廢水經過系統處理后達到國家污水綜合排放標準級標準和納管排放。 |
二、設計技術規范及相關標準 |
本污水處理項目的設計,施工與安裝嚴格執行國家的專業技術規范與標準,其主要規范與標準如下: |
●《污水綜合排放標準》 GB8978-1996標準 |
●《鋼結構設計規范》 GB50017-2017 |
●《固定式鋼梯和平臺要求》 GB 4053—2009 |
●《機械設備安裝工程施工及驗收規范》 GB50231-2009 |
●《現場設備、工業管道焊接施工及驗收規范》 GB50236-2011 |
●《電力裝置的繼電保護和自動裝置設計規范》 GBT50062-2008 |
●《電氣裝置施工及驗收規范》 GB-50254-96 |
●《分散型控制系統工程設計規范》 HGT-20573-2012 |
●《工業與民用供配電系統設計規范》 GB-50052-2009 |
●《低壓配電裝置及線路設計規范》 GB50054-2011 |
三、項目由來 |
該廠區主要廢水生產廢水來源于以下: |
3.1、含氟清洗廢水及處理單元預估出水情況 | |||||||
處理工藝 | 項目 | 水量(t/a) | pH | COD(mg/l) | SS(mg/l) | F-(mg/l) | 氯化物(mg/l) |
一級反應沉淀池 | 進水 | 11520 | 3-4 | 50 | 25 | 300 | 30 |
出水 | 11520 | 4-5 | 40 | 17.5 | 60 | 30 | |
去除效率% | - | / | 20 | 30 | 80 | / | |
二級反應沉淀池 | 進水 | 11520 | 4-5 | 40 | 17.5 | 60 | 30 |
出水 | 11520 | 5-6 | 32 | 7 | 12 | 30 | |
去除效率% | - | / | 20 | 60 | 80 | / | |
pH調節池 | 進水 | 11520 | 5-6 | 32 | 7 | 12 | 30 |
出水 | 11520 | 6-9 | 32 | 7 | 12 | 30 |
3.2、研磨清洗廢水及處理單元預估出水情況 | |||||
處理工藝 | 項目 | 水量(t/a) | pH | COD(mg/l) | SS(mg/l) |
反應沉淀 | 進水 | 3840 | 6-9 | 100 | 800 |
出水 | 3840 | 7-10 | 100 | 200 | |
去除效率% | - | / | 0 | 75 | |
pH調節池 | 進水 | 3840 | 7-10 | 100 | 200 |
出水 | 3840 | 6-9 | 100 | 200 |
3.3、含有機物清洗廢水 |
有機清洗廢水排放量較少,只為144m3/a,經現場收集后委托有資質單位處理處置。 |