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蘇州市創聯凈化設備有限公司
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15t/h電子級超純水設備-線路板純水用
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15t/h電子級超純水設備-線路板純水用是蘇州市創聯凈化設備有限公司的主要產品之一,公司專業提供工業純水設備、廢水處理設備及工程、中水回用設備及工程,行業口碑良好,信譽良好,收費合理,本頁面為您介紹技術詳情,歡迎查看。
產品詳情介紹

PCB線路板用純水設備統稱線路板清洗設備,PCB板純水設備,PCB純水機,因為線路板生產過程中常用到的電鍍銅,錫,鎳金;化學鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產過程都需要用到不同要求的純水,再者線路板生產過程中使用的藥水不同,生產工藝流程的差異,對純水的品質要求也不一樣。

純水設備還可以應用到其它電子產品清洗用水,用途和參考標準:

用途Applications

用水指標Water Indicators

參考標準Reference standard

單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產、半導體芯片相關、半導體設備清洗

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997

美國半導體工業用純水指標

單晶硅半導體集成電路塊,顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM

美國半導體工業用純水指標

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997

光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、磁性材料用純水

電阻率 10 ~17 MΩ.CM

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997 

美國半導體工業用純水指標

蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產

電阻率5 ~10 MΩ.CM

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997

有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、ITO導電玻璃制造用水、電子級無塵布生產用水

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997

美國半導體工業用純水指標

主要工藝流程和出水指標:

預處理+二級反滲透+EDI(電阻率≥15MΩ.CM)

預處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床(電阻率≥18.25MΩ.CM)

詳細工藝需根據原水及用水要求設計情況進行設計

     

純水設備的主要特點 

▼結合電子工業用水連續生產的特性,采用了膜法處理工藝(UF+RO+EDI)完成高純水的制備工作;  

▼對于電子行業用水的特性,增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除;

▼采用了氮封水箱解決了電子工業用水要求較高,水的儲存容易污染問題;

▼采用進口反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長,運行成本低廉,產水水質高而穩定;

▼在線水質監測控制,實時監測水質變化,保障水質安全;

▼全自動電控程序,還可選配觸摸屏操作,使用方便,操作簡單、安全;

▼切合當地水質的個性化設計,設想周到的堆疊式設計,占地面積小,滿足客戶需求。

▼運行費用及維修成本低,自動運行,可以實現無人化管理操作。

15t/h電子級超純水設備-線路板純水用
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產品詳情介紹

PCB線路板用純水設備統稱線路板清洗設備,PCB板純水設備,PCB純水機,因為線路板生產過程中常用到的電鍍銅,錫,鎳金;化學鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產過程都需要用到不同要求的純水,再者線路板生產過程中使用的藥水不同,生產工藝流程的差異,對純水的品質要求也不一樣。

純水設備還可以應用到其它電子產品清洗用水,用途和參考標準:

用途Applications

用水指標Water Indicators

參考標準Reference standard

單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產、半導體芯片相關、半導體設備清洗

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997

美國半導體工業用純水指標

單晶硅半導體集成電路塊,顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM

美國半導體工業用純水指標

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997

光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、磁性材料用純水

電阻率 10 ~17 MΩ.CM

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997 

美國半導體工業用純水指標

蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產

電阻率5 ~10 MΩ.CM

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997

有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、ITO導電玻璃制造用水、電子級無塵布生產用水

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM

我國電子級水質技術指標,GB11446-1-1997

美國半導體工業用純水指標

主要工藝流程和出水指標:

預處理+二級反滲透+EDI(電阻率≥15MΩ.CM)

預處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床(電阻率≥18.25MΩ.CM)

詳細工藝需根據原水及用水要求設計情況進行設計

     

純水設備的主要特點 

▼結合電子工業用水連續生產的特性,采用了膜法處理工藝(UF+RO+EDI)完成高純水的制備工作;  

▼對于電子行業用水的特性,增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除;

▼采用了氮封水箱解決了電子工業用水要求較高,水的儲存容易污染問題;

▼采用進口反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長,運行成本低廉,產水水質高而穩定;

▼在線水質監測控制,實時監測水質變化,保障水質安全;

▼全自動電控程序,還可選配觸摸屏操作,使用方便,操作簡單、安全;

▼切合當地水質的個性化設計,設想周到的堆疊式設計,占地面積小,滿足客戶需求。

▼運行費用及維修成本低,自動運行,可以實現無人化管理操作。

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