微電子、電池工業(yè)用水應(yīng)用領(lǐng)域和指標(biāo)要求參考：用途用水指標(biāo)參考標(biāo)準(zhǔn)單晶硅、多晶硅、太陽(yáng)能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產(chǎn)電阻率15~18.25MΩ.CM我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997GB11446-1-1997美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業(yè)電阻率15~18.25MΩ.CM美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997GB11446-1-1997光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、磁性材料用純水電阻率10~17MΩ.CM我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997GB11446-1-1997美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產(chǎn)電阻率5~10MΩ.CM我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997GB11446-1-1997有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級(jí)新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、ITO導(dǎo)電玻璃制造用水、電子級(jí)無塵布生產(chǎn)用水電阻率15~18.25MΩ.CM我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)?主要工藝流程和出水指標(biāo)：※預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM）※預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）※預(yù)處理+二級(jí)反滲透+脫氣膜+EDI+拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）（詳細(xì)工藝需根據(jù)原水設(shè)計(jì)情況進(jìn)行設(shè)計(jì)）?純水設(shè)備的主要特點(diǎn)：▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作；▼對(duì)于電子行業(yè)用水的特性，增強(qiáng)了對(duì)水中二氧化硅、重金屬和有機(jī)碳的脫除；▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲(chǔ)存容易污染問題；▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長(zhǎng)，運(yùn)行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定；▼在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化，保障水質(zhì)放心；▼全自動(dòng)電控程